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    X射線光電子能譜法XPS測試的特點及制樣要求
    來源： 時間：2022-08-24 16:42:34 瀏覽：8915次

    X射線光電子能譜（XPS）是電子材料與元器件顯微分析下的一種表面分析方法，該方法常常和俄歇電子能譜技術(shù)（AES）配合使用，XPS的原理是用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內(nèi)層電子或價電子受激發(fā)射出來，通過測量被光子激發(fā)出來的電子能量，以光電子的動能/束縛能（binding energy，Eb=hv光能量-Ek動能-w功函數(shù)）為橫坐標(biāo)，相對強(qiáng)度（脈沖/s）為縱坐標(biāo)而做出光電子能譜圖，最終獲得試樣有關(guān)信息。

    XPS數(shù)據(jù)分析


    一、X射線光電子能譜法的特點

    1、可以分析除 H 和 He 以外的所有元素；可以直接測定來自樣品單個能級光電發(fā)射電子的能量分布，且直接得到電子能級結(jié)構(gòu)的信息。

    2、從能量范圍看，如果把紅外光譜提供的信息稱之為“分子指紋”，那么電子能譜提供的信息可稱作“原子指紋”。它提供有關(guān)化學(xué)鍵方面的信息，即直接測量價層電子及內(nèi)層電子軌道能級。而相鄰元素的同種能級的譜線相隔較遠(yuǎn)，相互干擾少，元素定性的標(biāo)識性強(qiáng)。

    3、是一種無損分析。

    4、是一種高靈敏超微量表面分析技術(shù)。分析所需試樣極少量即可，樣品分析深度0.5-10nm 。

    二、X 射線光電子能譜法的應(yīng)用:

    1、元素定性分析

    2、元素定量分折

    3、固體表面分析

    4、化合物結(jié)構(gòu)簽定

    二、X射線光電子能譜法的制樣要求

    1.預(yù)處理尺寸要求：塊狀/片狀/薄膜：長寬厚不超出1 cm × 1 cm × 3 mm（磁性樣品盡量小）（對塊狀樣品或薄膜樣品的測試面做好標(biāo)記）；粉末樣品大于200目，不少于10mg，量少請用稱量紙包好再裝到管子里寄送。請勿用手觸摸樣品表面，會引入污染。制好樣后請盡快密封，避免其他物質(zhì)污染；

    2.送樣前樣品需充分干燥，否則影響儀器真空度。高分子樣品在送樣前應(yīng)進(jìn)行干燥處理。若含有高揮發(fā)性分子等請務(wù)必烘烤。

    3.樣品含有硫或碘等鹵族元素請務(wù)必填寫或者提前告知，避免污染高真空系統(tǒng)；

    4.樣品在超高真空及在X射線、紫外線、電子束或Ar離子束照射下應(yīng)穩(wěn)定，不分解、不釋放氣體。


    測試狗


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    全部 3小時前 四川
    文字是人類用符號記錄表達(dá)信息以傳之久遠(yuǎn)的方式和工具。現(xiàn)代文字大多是記錄語言的工具。人類往往先有口頭的語言后產(chǎn)生書面文字，很多小語種，有語言但沒有文字。文字的不同體現(xiàn)了國家和民族的書面表達(dá)的方式和思維不同。文字使人類進(jìn)入有歷史記錄的文明社會。
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